Vui lòng dùng định danh này để trích dẫn hoặc liên kết đến tài liệu này: http://data.ute.udn.vn/handle/123456789/2549
Nhan đề: Ảnh hưởng của chất khí làm việc tới đặc tính điện học của tia plasma áp suất khí quyển (APPJ)
Tác giả: Trương, Văn Nhân
Từ khoá: Nghiên cứu khoa học
Khoa Điện - Điện tử
Năm xuất bản: 7/1/2025
Tóm tắt: - Mô hình tạo tia plasma áp suất khí quyển đặt tại phòng thí nghiệm cao áp, trường Đại học Sư phạm Kỹ thuật. - Kết quả cho thấy sự tối ưu hóa điện áp và lưu lượng khí argon có thể cải thiện tính ổn định và hiệu quả của quá trình phóng điện trong tia plasma áp suất khí quyển. x Đặc biệt, khi điện áp tăng, dòng điện và công suất tức thời cũng tăng, giúp plasma duy trì bền vững hơn. - Đồ thị Lissajous (Q-V) được sử dụng để phân tích chi tiết mối quan hệ điện tích - điện áp, giúp xác định rõ hơn các điểm "bật" và "tắt" của plasma, đồng thời cung cấp góc nhìn mới về đặc tính điện học và độ ổn định của plasma. Kết quả này là nền tảng quan trọng để tối ưu hóa plasma khí quyển cho các ứng dụng yêu cầu sự ổn định cao. - Ứng dụng tiềm năng trong y tế và nông nghiệp: Với tính chất ổn định và hiệu quả, mô hình này mở ra cơ hội cho các ứng dụng trong nhiều lĩnh vực như y tế (khử trùng và xử lý bề mặt) và nông nghiệp (kích thích nảy mầm và sinh trưởng cây trồng. - Định hướng phát triển mô hình trong các nghiên cứu tiếp theo: Các phát hiện từ nghiên cứu chỉ ra rằng việc tối ưu và lựa chọn các thiết bị, c
Định danh: http://data.ute.udn.vn/handle/123456789/2549
Bộ sưu tập: Đề tài NCKH cán bộ năm 2025

Các tập tin trong tài liệu này:
Tập tin Mô tả Kích thước Định dạng  
Báo cáo tổng kết _T2023-06-17_Trương Văn Nhân.pdf6.28 MBAdobe PDFbook.png
 Đăng nhập để xem toàn văn


Khi sử dụng các tài liệu trong Thư viện số phải tuân thủ Luật bản quyền.